您的位置:首页 > 图书分类 > 图书详情
#

多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场分析

当前价:
¥ 26.32
定价:
¥ 56.00
规格
数量
库存 0
  • 装帧:平装
  • 作者:廖达海
  • ISBN:9787563976836
  • 出版日期:2021-10-1
  • 书名:多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒混合过程流场分析
  • 出版社:北京工业大学出版社
  • 开本:24cm
本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程,同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。
用户评价