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超大规模集成电路先进光刻理论与应用

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装帧:平装
作者:韦亚一
ISBN:9787030482686
出版日期:2023-12-1
书名:超大规模集成电路先进光刻理论与应用
出版社:科学出版社
开本:24cm

本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。

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