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多弧离子镀沉积过程的计算机模拟

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装帧:平装
作者:赵时璐著
ISBN:9787502462277
出版日期:2013-4-1
书名:多弧离子镀沉积过程的计算机模拟
出版社:冶金工业出版社
开本:21cm

本书介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章，主要内容包括：绪论、真空镀膜技术的介绍、多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础、多弧离子镀物理过程的分析、计算机模拟技术、数学模型的建立、程序的编制、模拟的结果、模拟结果的讨论与验证、6个模块的主要程序代码等。

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