本书介绍了人工晶体生长的基础理论和相图技术，在此基础上介绍了人工晶体生长主流技术如水溶液法、助熔剂法、水热法、焰熔法、提拉法和坩埚下降法等，介绍了上述人工晶体生长技术的基本原理、设备设计与构造、生长工艺以及它们的优缺点等。同时，选择性介绍了几种重要的光电子晶体材料的生长技术。